相比目前的0.33數(shù)值孔徑的EUV光刻機,High-NA EUV光刻機將數(shù)值孔徑提升到0.55,可以進一步提升分辨率(根據(jù)瑞利公式,NA越大,分辨率越高),從0.33 NA EUV的13nm分辨率提升到0.55 NA EUV的低#8nm分辨率(通過多重曝光可支持2nm及以下制程工藝芯片的制造) 跨越式路線則追求通過高成本的激光雷達等前沿硬件和算法,在限定路線、限定區(qū)域中打造完全無人駕駛的Robotaxi,后續(xù)再基于硬件成本降低和算法的成熟,將系統(tǒng) 下放 到更廣闊的乘用車領(lǐng)域 在技術(shù)方向上,兩條路線并沒有對錯之分,關(guān)鍵是所需的資源、成本和大規(guī)模落地所需的時間不同